光刻机究竟有多难？
光刻机是高科技产业中关键的制造设备之一，它的难度自然也相当高。尤其是目前常用的高分辨率光刻技术，更是成就了许多科学家和工程师的辉煌成果。光刻机具体是什么呢？
光刻机是一种以光敏感树脂作为介质，并用激光分光衍射实现高精度成像并进行图案加工制造的设备。简单来说，就是通过把光模式映射到光刻涂层上，进行芯片生产的基础设施。 这里所说的光模式就是IC芯片设计的图形化描述：将电路元器件组织在一起，使用EDA软件绘制出的2D或者3D的布局系统。这些布局图包含了由网络、选择、问题、缘由等序列组成的数字信号等信息。高分辨率光刻技术难在哪里？
高分辨率光刻技术在硅谷还有不少的开发和教育项目，目前大家所熟知的就是属于这个领域的Lithography standford course，其中就涉及了高精度光刻机所要面对的几个主要难题。 首先，高分辨率的光刻需要光学系统拥有更高的空间和时域像模；其次，高成像模型需要加入处理器；最后，对于具体处理问题，高分辨率挑战通常涉及各个领域，如物理学、化学、材料科学、半导体工艺学、器件物理学等。高分辨率光刻技术现状怎么样呢？
目前，高分辨率光刻技术已经落地应用到了半导体行业中，可以得到广泛应用。在高分辨率光刻技术的指引下，半导体芯片可在单片上集成更多的元器件，以及运行速度更快，并且低功耗。实现高端芯片的制造，并且能够保持尽量小的工艺误差和损失，是求质量和流程简洁的重要因素，在实现难度很大的同时也具有一定的应用价值。版权声明：本文来源于互联网，不代表本站立场与观点，滴大大点评网无任何盈利行为和商业用途，如有错误或侵犯利益请联系我们。
